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Toshiba accélère le développement de la lithographie par nanoimpression

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– Signature d’un accord définitif avec SK Hynix sur le développement conjoint d’un processus de nouvelle génération – Toshiba (TOKYO : 6502) a annoncé aujourd’hui qu’il signa

Signature d’un accord définitif avec SK Hynix sur le développement conjoint d’un processus de nouvelle génération –

Toshiba (TOKYO : 6502) a annoncé aujourd’hui qu’il signait un accord définitif avec SK Hynix sur le développement conjoint de la lithographie par nanoimpression (Nano Imprint Lithography, NIL). Des ingénieurs de ces deux entreprises commenceront à développer des technologies de base pour le processus au Complexe Yokohama de Toshiba à Yokohama, au Japon en avril de cette année, avec comme objectif une utilisation pratique en 2017. L’annonce faite aujourd’hui est basée sur un protocole d’entente que les entreprises ont signé en décembre de l’année dernière.

Toshiba a travaillé avec plusieurs entreprises spécialisées dans les équipements et les matériaux sur la technologie NIL, intégrant leurs technologies avec le procédé de fabrication des semiconducteurs de Toshiba. Le programme de développement conjoint avec SK Hynix qui vient d’être annoncé accélère la transition vers une utilisation pratique et réduit le poids de l’investissement de Toshiba dans le développement de la technologie NIL.

NIL est une des technologies candidates pour favoriser la migration vers les prochaines générations des dispositifs de mémoire. La photolithographie, la technologie de procédés conventionnelle actuelle, fait appel à un laser et à un masque photosensible pour graver des circuits sur un revêtement sensible à la lumière sur des plaquettes semiconductrices. La technologie NIL transfère la conception du circuit directement, en imprimant un modèle à motifs sur la plaquette. Ceci offre le potentiel d’obtenir des conceptions plus fines.

Toshiba continuera à favoriser le développement de la prochaine génération de lithographie, telle que le NIL et la lithographie extrême ultraviolet, afin de renforcer son activité de mémoire et la migration vers des générations de produits futures.

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À propos de Toshiba

Toshiba Corporation, une société du Fortune Global 500, canalise dans cinq domaines d’affaires stratégiques ses capacités de niveau mondial en produits et systèmes électroniques et électriques de pointe : énergie et infrastructure, solutions à l’intention de la collectivité, systèmes et services de soins de santé, appareils et composants électroniques et produits et services « mode de vie ». Guidée par les principes de l’engagement de base du groupe Toshiba, « Au service de la population, au service de l’avenir », Toshiba promeut des opérations mondiales visant à assurer « La croissance à travers la créativité et l’innovation » et contribue à la création d’un monde où les gens, en tous lieux, vivent dans une société sûre, sécurisée et confortable.

Fondée à Tokyo en 1875, Toshiba se situe aujourd’hui au cœur d’un réseau mondial de plus de 590 sociétés consolidées employant plus de 200 000 personnes à travers le monde, avec des ventes annuelles dépassant les 6,5 billions de yens (63 milliards USD). Pour en savoir plus sur Toshiba, rendez-vous sur le site www.toshiba.co.jp/index.htm

Le texte du communiqué issu d’une traduction ne doit d’aucune manière être considéré comme officiel. La seule version du communiqué qui fasse foi est celle du communiqué dans sa langue d’origine. La traduction devra toujours être confrontée au texte source, qui fera jurisprudence.

Toshiba Corporation
Semiconductor & Storage Products Company
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Communication IR Promotion Group
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